Identificador persistente para citar o vincular este elemento: http://hdl.handle.net/10553/114569
Título: Gate Length-Dependent Thermal Impedance Characterization of PD-SOI MOSFETs
Autores/as: González Pérez, Benito 
Cabrera Peña, José María 
Lazaro, Antonio
Clasificación UNESCO: 3307 Tecnología electrónica
Palabras clave: Electrothermal characterization model
Silicon-on-insulator (SOI) MOSFET
Thermal impedance
Fecha de publicación: 2022
Proyectos: NextIOT-RTI2018-096019-B-C31
Publicación seriada: IEEE Transactions on Electron Devices 
Resumen: Thermal impedance is required to describe static and fast dynamic thermal behavior in silicon-oninsulator (SOI) devices. This study presents an empirical physical model, which accounts for gate length, for calculating the thermal impedance of multi-finger partially depleted (PD) SOI MOSFETs at room temperature. For the first time, the parameters of the model are obtained from measurements of ac conductance and the characteristic thermal frequency determination. The model shows decreasing thermal resistance and linearly augmented thermal capacitance with increasing gate length from 0.18 to 2.50 μm. Thus, thermal time constants of ~760 ns, extracted from a variety of gate lengths, are correctly predicted.
URI: http://hdl.handle.net/10553/114569
ISSN: 0018-9383
DOI: 10.1109/TED.2021.3132854
Fuente: IEEE Transactions on Electron Devices [ISSN 0018-9383], v. 69 (2), p. 469-474, (Febrero 2022)
Colección:Artículos
Adobe PDF (4,38 MB)
Vista completa

Google ScholarTM

Verifica

Altmetric


Comparte



Exporta metadatos



Los elementos en ULPGC accedaCRIS están protegidos por derechos de autor con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.