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Ortega Saavedra, Juan ; Fernández Suárez, Luis Jesús ; Sosa Marco, Adriel ; Lorenzo Pérez, Beatriz ; Rios Santana, Raul Jorge , et al. Fecha de publicación: 2020 Localización: Industrial & Engineering Chemistry Research [ISSN 0888-5885], v. 59 (17), p. 8346-8360 SJR: 0,878 - Q1 JCR: 3,72 - Q2 SCIE Artículo |
Lorenzo Pérez, Beatriz ; Ortega Saavedra, Juan ; Fernández, Luis ; Sosa Marco, Adriel Fecha de publicación: 2021 Localización: Industrial & Engineering Chemistry Research [ISSN 0888-5885], v. 60 (38), p. 13938-13949 SJR: 0,816 - Q1 JCR: 3,72 - Q2 SCIE MIAR ICDS: 11,0 Artículo |
Lorenzo Pérez, Beatriz ; Yánez Alemán,José Aythami ; Ortega Saavedra, Juan ; Sosa Marco, Adriel ; Fernández Suárez, Luis Jesús Fecha de publicación: 2022 Localización: Liquids [ISSN 2673-8015], v. 2 (1), p. 1-13, (2022) Artículo |
Ortega Saavedra, Juan ; Sosa Marco, Adriel ; Lorenzo Pérez, Beatriz ; Fernández Suárez, Luis Jesús ; Espiau, Fernando Fecha de publicación: 2022 Localización: Revista de la Academia Canaria de Ciencias [ISSN 1130-4723], v. 30, p. 51-65, (Mayo 2022) MIAR ICDS: 6,5 Artículo |
Domínguez Déniz, Leandro ; Fernández Suárez, Luis Jesús ; Ortega Saavedra, Juan ; Sosa Marco, Adriel ; Lorenzo Pérez, Beatriz Fecha de publicación: 2022 Localización: Revista de la Academia Canaria de Ciencias [ISSN 1130-4723], v. 30, p. 23-50, (Mayo 2022) MIAR ICDS: 6,5 Artículo |
Sosa Marco, Adriel ; Ortega García, Juan Miguel ; Fernández Suárez, Luis Jesús ; Lorenzo Pérez, Beatriz Fecha de publicación: 2022 Localización: Journal of Industrial and Engineering Chemistry[ISSN 1226-086X], v. 108, p. 288-307 SJR: 1,005 - Q1 JCR: 6,1 - Q1 SCIE MIAR ICDS: 10,9 Artículo |
Domínguez Déniz, Leandro ; Ortega, Juan ; Fernández, Luis ; Maarouf Bassaidi, Mustapha ; Lorenzo Pérez, Beatriz Fecha de publicación: 2023 Localización: Trends in Chemical Engineering [ISSN 0972-4478], v. 21, p. 13-25, (2023) Artículo |
Lorenzo Pérez, Beatriz ; Fernández Suárez, Luis Jesús ; Ortega Saavedra, Juan ; Domínguez Déniz, Leandro Fecha de publicación: 2023 Localización: Process [ISSN 2227-9717], v. 11, nº 6, 1640, 2023 SJR: 0,525 - Q2 JCR: 3,5 - Q2 SCIE Artículo |