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Applied physics letters

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Reactive ion beam etching of aluminum indium antimonide, gallium indium antimonide heterostructures in electron cyclotron resonance methane/hydrogen/ nitrogen/silicon tetrachloride discharges at room temperature Sendra, J. R. ; Anguita, J.; Pérez-Camacho, J. J.; Briones, F. Fecha de publicación: 1995 DOI: 10.1063/1.115223 Localización: Applied Physics Letters[ISSN 0003-6951],v. 67, p. 3289 SCIE Artículo
Polarization control of high transmission/reflection switching by all-dielectric metasurfaces Shibanuma, Toshihiko; Maier, Stefan A.; Albella, Pablo Fecha de publicación: 2018 DOI: 10.1063/1.5018783 Localización: Applied Physics Letters [ISSN 0003-6951], v. 112 (6), 063103 SJR: 1,331 - Q1 JCR: 3,521 - Q1 SCIE Artículo

Sendra, J. R. ; Anguita, J.; Pérez-Camacho, J. J.; Briones, F.

Fecha de publicación: 1995

DOI: 10.1063/1.115223

Localización: Applied Physics Letters[ISSN 0003-6951],v. 67, p. 3289

SCIE

Artículo

Shibanuma, Toshihiko; Maier, Stefan A.; Albella, Pablo

Fecha de publicación: 2018

DOI: 10.1063/1.5018783

Localización: Applied Physics Letters [ISSN 0003-6951], v. 112 (6), 063103

SJR: 1,331

- Q1

JCR: 3,521

- Q1

SCIE

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