Publicaciones

MacFarlane, Douglas R.; Choi, Jaecheol; Suryanto, Bryan H. R.; Jalili, Rouhollah; Chatti, Manjunath, et al.
Fecha de publicación: 2020
Localización: Advanced Materials [ISSN 0935-9648], vol. 32(18)
SJR: 10,707
- Q1
JCR: 30,849
- Q1
SCIE
Artículo
10.1002adma.201904804 (1).pdf.jpg