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Ortega, Juan ; Susial, Pedro Fecha de publicación: 1990 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan [ISSN 0021-9592], v. 23 (5), p. 621-626 SCIE Artículo |
Ortega, Juan ; Susial, Pedro Fecha de publicación: 1990 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan [ISSN 0021-9592], v. 23 (3), p. 349-353, (1990) SCIE Artículo |
Ortega, Juan ; Susial, Pedro Fecha de publicación: 1993 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan [ISSN 0021-9592],v. 26 (3), p. 259-265, (Junio 1993) SCIE Artículo |
Galvan, Salvador; Ortega, Juan ; Susial, Pedro ; Pena, Juan A. Fecha de publicación: 1994 Localización: Journal Of Chemical Engineering Of Japan[ISSN 0021-9592],v. 27 (4), p. 529-534 SCIE Artículo |
Ortega, Juan ; Peña, Juan A. Fecha de publicación: 1994 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan [ISSN 0021-9592], v. 27 (3), p. 351-356 (Junio 1994) SCIE Artículo |
Susial, Pedro ; Ortega, Juan Fecha de publicación: 1995 Localización: Journal Of Chemical Engineering Of Japan[ISSN 0021-9592],v. 28 (1), p. 66-70 SCIE Artículo |
Gonzalez, Eduardo; Ortega, Juan Fecha de publicación: 1995 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan[ISSN 0021-9592],v. 28, p. 765-771 SCIE Artículo |
Gonzalez, E; Ortega, Juan Fecha de publicación: 1996 Localización: Journal Of Chemical Engineering Of Japan[ISSN 0021-9592],v. 29 (2), p. 294-299 SCIE Artículo |
Rios-Santana, Raul ; Sosa-Rosario, Aday ; Susial, Pedro Fecha de publicación: 2010 Localización: Journal Of Chemical Engineering Of Japan[ISSN 0021-9592],v. 43 (8), p. 650-656 JCR: 0,442 - Q3 SCIE Artículo |
Susial, Pedro ; Sosa-Rosario, Aday; Rodríguez-Henríquez, Juan José; Rios-Santana, Raul Fecha de publicación: 2011 Localización: Journal of Chemical Engineering of Japan[ISSN 0021-9592],v. 44, p. 155-163 SJR: 0,32 - Q3 JCR: 0,622 - Q3 SCIE Artículo |